Toshiba trabajando bajo los 29nm Toshiba trabajando bajo los 29nm

Pronto, muy pronto.

Toshiba trabajando bajo los 29nm

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Pronto, muy pronto.

Toshiba, en su faceta de productor de memorias flash NAND, ya trabaja en una nueva tecnología de procesos para fabricar dicho producto, queriendo estar a la vanguardia en este rubro, siendo el pionero en construir estos chips NAND en un tamaño por debajo de los 29nm. Esto contrasta con los actuales modelos de manera notoria, pues éstos manejan tamaños de 32nm y 43nm.

Si bien no se tienen productos listos ni nada por el estilo, ya están los dos elementos principales: la intención y el financiamiento. Durante este mismo año, Toshiba invertirá cerca de $160 millones de dólares en el desarrollo de esta tecnología, en lo que será una línea de producción de “prueba” para chips avanzados de memoria flash.

Los beneficios de un proceso más pequeño de fabricación son evidentes: mayor densidad del chip y por ende, más capacidad en un espacio más pequeño.

Los planes que tiene la empresa serían los siguientes: se pretende comenzar con la producción de memorias NAND que oscilen entre los 20 y 29nm muy pronto, es decir, dentro de este mismo año, sin confirmarse aún el tamaño definitivo. Por otro lado, y poniéndose más ambiciosos, se espera que procesos de fabricación por debajo de los 20nm comiencen a efectuarse en el año 2012, si es que llegamos. Y ojalá lleguemos.

Link: Toshiba to make sub-25nm flash memory (Reuters)