MIT logra hacer circuitos en 25nm con Litografía actual

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Se resiste a ser reemplazada por EUV

Hace poco les contamos sobre las mejoras y el estado en que se encuentra la Litografía EUV, básicamente la litografía actual ya esta llegando a su limite y para procesos de 16nm o menores, la solución es pasar a Extreme Ultra Violet Litography que tiene un espectro mucho mas pequeño que la Litografía normal. (193nm vs 13nm).

El gran problema de EUV es su elevado precio para ser implementada y gracias a un desarrollo del MIT la litografía actual podrá seguir usándose para una generación más de semiconductores y así no incurrir en el elevado costo de cambio por ahora.

EL nuevo proceso del MIT se llama Litografía de Interferencia, algunas veces referida como Litografía Holografica. Según comentaron los investigadores hoy en día no hay ninguna barrera insuperable para seguir fabricando con litografía óptica procesos más pequeños.

Este nuevo tipo de Litografía tiene un gran problema, esta limitada a hacer formas uniformes y ordenadas, lo que hace la producción de chips mas complejos y con formas arbitrarias imposibles de producir. El lado bueno es que el chip producido puede ser fabricado muy rápidamente sin perdida de enfoque, muchos chips fabricados hoy en día tienen este tipo de forma simple y ordenada, la gente del MIT cree que este descubrimiento puede pavimentar el camino para la próxima generación de chips de memoria, circuitos integrados y celdas solares.

Fuente: TG Daily