Revolución en fabricacion de CPUs
Investigadores dicen haber descubierto una nueva forma de inducir la oxidacion del silicio. Para esto utilizan rayos UV con lo que logran partir moleculas de oxigeno en la superficie del silicio.
El metodo antiguo era usar altas temperaturas para lograr la oxidacion, temperaturas que llegaban a los 1000ºC, lo que es muy alto y llevaba a altos costos de produccion.
Fuente The Register