Intel tecnologia tri-gate

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El futuro sera en 32nm y 22nm

Este lunes Intel ha anunciado que sus ingenieros han completado el desarrollo de la tecnologia tri-gate. Esta estara disponible para producion en masa para cuando se necesite.

Intel ha integrado exitosamente 3 elementos claves, geometria tri-gate, High-k gate transistors y strained silicon, para nuevamente lograr records en capacidades de los transistores. Los resultados dan confianza que Intel podra seguir cumpliendo la ley de Moore en la proxima decada.

Los transistores planos se crearon en los 50s y han sido la unidad basica para construir chips. Como la tecnologia cada vez avanza mas alla en los nanometros, donde algunos transistores son tan solo unas pocas capas de atomos, lo que antes se pensaba plano ahora esta siendo diseñado en 3 dimensiones para mejorar su rendimiento y caracteristicas de consumo.

Estos nuevos transistores jugaran un rol critico en la capacidad de Intel para hacer procesadores eficientes en el uso de energia, estos nuevos transistores ofrecen mucho menos leakage y consumen mucho menos poder. Comparando esta tecnologia con la actual de 65nm esta ofrece 45% mayor velocidad de switch y 35% de reducion en el consumo al hacer switch.

Fuente X-bitlabs